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HMDS黏附機  光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱研發(fā)背景

       集成電路光刻工藝中常使用HMDS對晶圓襯底進行黏附處理，來提高光刻膠與襯底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷（Si(CH3)3）2NH，行業(yè)所要求純度大于99.7%。

HMDS黏附機  光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱作用

HMDS黏附機  光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱實用性

       在光刻中，光刻膠的黏附效果受到光刻涂層，襯底材料，以及光刻工藝三方面的影響。HMDS的黏附處理不只是對硅基襯底有效。也用于其他襯底，諸如多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。

HMDS烘箱兼容2~12寸晶圓及碎片、方片等。