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HMDS預(yù)處理烘箱在光刻工藝中的重要作用為:增強(qiáng)光刻膠和襯底表面的粘附力。

光刻工藝中涂膠顯影流程包括HMDS（六甲基二硅氮烷，增粘劑）預(yù)處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影和堅(jiān)膜。

HMDS預(yù)處理作用:

增強(qiáng)光刻膠和襯底表面的粘附力;

實(shí)現(xiàn)方法:浸泡、涂覆、氣相處理（即HMDS烘箱）等。

HMDS預(yù)處理烘箱

   JS-hmds90烘箱采用氣相沉積的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后排出尾氣，烘箱內(nèi)部充入N2，達(dá)到常壓后方可開門。

溫度范圍：RT+10-250℃

真空度：≤1torr

控制儀表：人機(jī)界面，一鍵運(yùn)行

儲液瓶：HMDS儲液量1000ml 

真空泵：無油渦旋真空泵

數(shù)據(jù)處理：多個工藝方案，可修改并記錄，使用數(shù)據(jù)可記錄

保護(hù)裝置： 低液位報警，HMDS藥液泄漏報&警，超溫保護(hù)并斷開加熱，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等

涂膠

作用:a.轉(zhuǎn)移掩模版圖形到襯底的介質(zhì)b刻蝕工藝中保護(hù)襯底;實(shí)現(xiàn)方法:浸泡、旋轉(zhuǎn)、噴霧、刷膠等:

前烘

b.蒸發(fā)溶劑;作用:a.增強(qiáng)粘附性實(shí)現(xiàn)方法:真空熱板85~120C處理。

曝光

作用:將掩模版圖形轉(zhuǎn)移到襯底表面;實(shí)現(xiàn)方法:接觸式、接近式、投影式。

后烘

作用:a.減少駐波效應(yīng)

        b.使光刻膠更易溶于顯影液:實(shí)現(xiàn)方法:熱板或烘箱等110-130C處理。

顯影作用:去除(未)曝光膠膜,保留圖形實(shí)現(xiàn)方法:浸泡、旋轉(zhuǎn)浸泡、旋轉(zhuǎn)噴霧

堅(jiān)膜

作用:a.進(jìn)一步減少駐波效應(yīng) 

        b.進(jìn)一步增強(qiáng)抗刻蝕能力;實(shí)現(xiàn)方法:熱板或堅(jiān)膜烘箱等100-130C處理