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FDTS氣相沉積系統(tǒng) FDTS防粘真空處理系統(tǒng)專用性

   用于在納米壓印光刻中在脫模期間降低表面粘附力。防粘層包括氟化硅烷(TFS)、十八烷基三氯硅烷(OTS)、聚苯并噁嗪、或氟癸基三氯硅烷(FDTS)。

制備一種抗模具粘連的三維元件制作方法及三維元件倒模：

基于軟光刻工藝復制三維元件母版，三維元件倒模的表面，形成一層1H，1H，2H，2H全氟癸基三氯硅烷分子涂層，進行二次復制，固化脫模后得到三維元件復制品。由于1H，1H，2H，2H全氟癸基三氯硅烷分子涂層與母版接觸角不同，二次復制脫模變得容易，起到了抗粘連的作用。

制備一種超疏水涂層：全氟癸基三氯硅烷FDTS與其縮合后降低其表面能，從而達到超疏水效果。該涂層具有自潔能力且能適用多種基材，用途廣范。

FDTS氣相沉積系統(tǒng) FDTS防粘真空處理系統(tǒng)性能

操作性能：配置精密PID智能溫控器、觸摸屏+人機界面

熱力系統(tǒng)：200℃，±0.5℃波動度

真空性能：極限真空50pa（可定制）

產(chǎn)品處理空間：20-3000L支持定制）

特殊配置：該設(shè)備采用防腐型材料內(nèi)腔，防腐專用真空泵，防腐專用閥門

    對半導體圖像傳感器組裝過程中感光面易受水/顆粒污染導致像素缺陷的問題，采用氣相沉積工藝在感光面形成超薄透光疏水層。FDTS氣相沉積系統(tǒng)通過單分子層自組裝技術(shù)實現(xiàn)均勻涂層，既保持≥80%透光率保障光學性能，又具備115°接觸角的強疏水性，有效阻隔液體污染，同時薄層結(jié)構(gòu)不影響打線制程，顯著提升成品率。