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四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱主要作用

  設(shè)備將六甲基二硅烷（HMDS）快速、均勻且經(jīng)濟(jì)高效的對(duì)襯底預(yù)處理，從而提高襯底與光刻膠的附著力。

  優(yōu)質(zhì)的光刻膠附著力是后續(xù)所有工藝步驟的基礎(chǔ)，只有經(jīng)過(guò)充分底涂的表面才能精準(zhǔn)復(fù)現(xiàn)亞微米級(jí)的共聚焦光闌，避免出現(xiàn)邊緣爆邊、或括副等問(wèn)題。真空固化工藝能徹底脫水基板，使與HMDS層形成的優(yōu)異結(jié)合力即使在暴露于大氣濕度數(shù)周后仍能保持穩(wěn)定。

四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱工藝特點(diǎn)

化學(xué)沉積均勻性

接觸角均一性更好

防潮表面處理

光刻膠的附著力可提高 3-5 倍

避免填充空洞（Void）形成，提高圖形轉(zhuǎn)移質(zhì)量

增強(qiáng)光阻附著性

六甲基二硅烷（HMDS）消耗量更低

適用行業(yè)：MEMS、濾波、放大、功率等器件，晶圓、藍(lán)寶石、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、砷化鎵、鈮酸鋰和、磷化銦、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。

四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱性能

容積:40L*4,（1-12寸產(chǎn)品及碎片兼容）可定制

操作應(yīng)用：4工位獨(dú)立控制

溫度范圍：RT+20-200℃

真空度：≤1torr

自動(dòng)化：電腦式控制+MES上機(jī)位控制

真空泵：無(wú)油渦旋真空泵

HMDS藥液泄漏報(bào)警提示功能

HMDS低液位報(bào)警提示功能

工藝數(shù)據(jù)記錄功能

程序鎖定保護(hù)等功能